國(guo)産ArF光(guang)刻膠(jiao)已有(you)3家企(qi)業實(shi)現實(shi)質性(xing)的技(ji)術突(tu)破

勢(shi)銀(TrendBank)研(yan)究統(tong)計分(fen)析，2021年(nian)國内(nei)半導(dao)體光(guang)刻膠(jiao)市場(chang)規模(mo)将達(da)到~29億(yi)人民(min)币。

 

 

國(guo)内半(ban)導體(ti)光刻(ke)膠布(bu)局及(ji)生産(chan)企業(ye)總計(ji)約有(you)14家，真(zhen)正👼🏾實(shi)🔞現了(le)批量(liang)供應(ying)的企(qi)業不(bu)足7家(jia)，且主(zhu)要集(ji)中☠️在(zai)紫外(wai)負膠(jiao)/正膠(jiao)、i/g線💔光(guang)刻膠(jiao)，如：北(bei)京科(ke)華、蘇(su)州瑞(rui)紅、濰(wei)坊星(xing)泰克(ke)、艾森(sen)半導(dao)體、江(jiang)蘇漢(han)拓等(deng)。而高(gao)端的(de)KrF光刻(ke)膠國(guo)産化(hua)率不(bu)足1%，能(neng)夠實(shi)現産(chan)品供(gong)應^的(de)有：北(bei)京科(ke)華、福(fu)建泓(hong)光半(ban)導體(ti)、江蘇(su)漢拓(tuo)、上海(hai)新陽(yang)等。在(zai)技術(shu)附加(jia)值更(geng)高的(de)ArF光刻(ke)膠産(chan)品上(shang)，目前(qian)國内(nei)還未(wei)能真(zhen)✋正實(shi)現規(gui)模化(hua)量産(chan)訂單(dan)供應(ying)，就數(shu)甯波(bo)南大(da)光電(dian)、博康(kang)旗下(xia)漢拓(tuo)光學(xue)以及(ji)廣州(zhou)微納(na)光💕刻(ke)材料(liao)在ArF光(guang)刻膠(jiao)産品(pin)上有(you)實質(zhi)性的(de)技術(shu)突破(po)。

 

來源(yuan)：勢銀(yin)(TrendBank) 

 

窺探(tan)中國(guo)大陸(lu)規模(mo)最大(da)的晶(jing)圓代(dai)工廠(chang)中芯(xin)國際(ji)各技(ji)術💌節(jie)點營(ying)收結(jie)構，在(zai)2020年年(nian)底被(bei)美國(guo)打壓(ya)，四季(ji)度45nm以(yi)下制(zhi)程營(ying)⛹🏻‍♂️收發(fa)^生嚴(yan)重壓(ya)縮，但(dan)在今(jin)年上(shang)半年(nian)公司(si)整體(ti)運營(ying)開始(shi)逐步(bu)轉好(hao)，營收(shou)增長(zhang)了33%，28nm/14nm的(de)先進(jin)制程(cheng)占比(bi)更是(shi)顯著(zhe)提升(sheng)，這也(ye)推動(dong)了上(shang)遊先(xian)進光(guang)刻膠(jiao)的需(xu)求，尤(you)其是(shi)ArF光刻(ke)膠的(de)國産(chan)替👱🏼‍♂️代(dai)。 

 

來源(yuan)：SMIC

 

目前(qian)國内(nei)芯片(pian)制造(zao)企業(ye)消耗(hao)的ArF光(guang)刻膠(jiao)基本(ben)是采(cai)購🚶🏾‍♀️‍➡️國(guo)外供(gong)應商(shang)，例如(ru)：JSR、TOK、信越(yue)化學(xue)等。我(wo)國本(ben)土光(guang)刻膠(jiao)企業(ye)在ArF光(guang)刻膠(jiao)産品(pin)上還(hai)是和(he)國際(ji)老牌(pai)供應(ying)商之(zhi)間存(cun)在很(hen)大的(de)光刻(ke)性能(neng)差距(ju)，如：折(she)射率(lü)、光敏(min)度、分(fen)辨率(lü)、線邊(bian)緣粗(cu)糙度(du)…等等(deng)參數(shu)。經勢(shi)銀(TrendBank)調(diao)研統(tong)計，我(wo)國正(zheng)在真(zhen)正逐(zhu)步推(tui)進ArF光(guang)刻膠(jiao)項目(mu)且有(you)技術(shu)實力(li)的廠(chang)商僅(jin)有如(ru)下6家(jia)，推測(ce)這幾(ji)家也(ye)将是(shi)未來(lai)🧑🏽‍❤️‍💋‍🧑🏻2-3年内(nei)逐一(yi)打入(ru)本土(tu)芯片(pian)制造(zao)👀商供(gong)應鏈(lian)的最(zui)有利(li)競争(zheng)者：

 

 

甯(ning)波南(nan)大光(guang)電

公(gong)司是(shi)ArF光刻(ke)膠産(chan)品開(kai)發與(yu)産業(ye)化項(xiang)目的(de)實施(shi)主👩‍🍼體(ti)單位(wei)，目前(qian)ArF幹式(shi)光刻(ke)膠已(yi)通過(guo)50nm閃存(cun)平台(tai)認證(zheng)和55nm邏(luo)輯電(dian)路平(ping)台認(ren)證。公(gong)司正(zheng)在大(da)力推(tui)進ArF光(guang)刻膠(jiao)（ArF幹式(shi)分辨(bian)率90-45nm，濕(shi)式分(fen)辨率(lü)65-14nm）産能(neng)😗建設(she)，規劃(hua)年産(chan)能達(da)到25噸(dun)（幹式(shi)5噸和(he)浸沒(mei)式20噸(dun)）。

 

上海(hai)新陽(yang)

公司(si)是KrF厚(hou)膜膠(jiao)與ArF光(guang)刻膠(jiao)開發(fa)與産(chan)業化(hua)項目(mu)的實(shi)😈施主(zhu)體😁單(dan)位🧛🏽，已(yi)擁有(you)兩台(tai)ArF光刻(ke)機，可(ke)分别(bie)用于(yu)幹法(fa)和濕(shi)法光(guang)刻膠(jiao)開發(fa)。目前(qian)KrF厚膜(mo)膠（分(fen)辨率(lü)≥0.15μm，膜厚(hou)0.3-15μm）已通(tong)過下(xia)遊客(ke)戶驗(yan)證，可(ke)應用(yong)于3D存(cun)儲器(qi)件工(gong)藝/PAD/Implant，預(yu)計2021年(nian)年底(di)會有(you)訂單(dan)批量(liang)供應(ying)出貨(huo)。其ArF光(guang)刻膠(jiao)尚處(chu)于客(ke)戶認(ren)證當(dang)中，可(ke)應用(yong)于先(xian)進邏(luo)輯節(jie)點的(de)Line/Contact/Hole/Trench，按進(jin)度預(yu)計在(zai)2021年年(nian)底😌會(hui)取得(de)實🧜🏼‍♀️質(zhi)性的(de)突破(po)進展(zhan)。

 

 

北京(jing)科華(hua)

公司(si)是國(guo)内本(ben)土KrF光(guang)刻膠(jiao)主力(li)供應(ying)商，目(mu)前已(yi)經打(da)入國(guo)内多(duo)家芯(xin)片制(zhi)造廠(chang)供應(ying)鏈（如(ru)長江(jiang)存儲(chu)、中芯(xin)國際(ji)、廣州(zhou)粵芯(xin)✍🏻、華虹(hong)半導(dao)體），2021年(nian)上半(ban)年KrF光(guang)刻膠(jiao)同比(bi)增長(zhang)94.51%，産品(pin)可應(ying)用于(yu)Poly/AA/Metal/Implant/Contact Hole等工(gong)藝，其(qi)ArF光刻(ke)膠項(xiang)目正(zheng)在按(an)計劃(hua)⛹🏻‍♀️推進(jin)。

 

晶瑞(rui)股份(fen)

公司(si)是老(lao)牌半(ban)導體(ti)光刻(ke)膠供(gong)應商(shang)之一(yi)，現已(yi)擁有(you)😁一台(tai)ArF幹💁🏼‍♀️式(shi)光刻(ke)機。其(qi)KrF光刻(ke)膠樣(yang)品正(zheng)在下(xia)遊客(ke)戶驗(yan)證，分(fen)辨率(lü)可達(da)0.15-0.25μm，可應(ying)用于(yu)Hole/Line/Space等層(ceng)工藝(yi)，其ArF幹(gan)式光(guang)刻膠(jiao)正處(chu)在開(kai)發階(jie)段，分(fen)😍辨率(lü)可達(da)90-65nm。

 

江蘇(su)漢拓(tuo)

公司(si)是徐(xu)州博(bo)康集(ji)團控(kong)股子(zi)公司(si)，具備(bei)徐州(zhou)博康(kang)成熟(shu)的💞KrF、ArF光(guang)🧑🏽‍🎄刻🧜🏼‍♂️膠(jiao)單體(ti)開發(fa)技術(shu)背景(jing)，目前(qian)已開(kai)發KrF正(zheng)膠和(he)負膠(jiao)産品(pin)，以負(fu)膠（分(fen)辨率(lü)0.25μm，膜厚(hou)0.6μm）和厚(hou)膜膠(jiao)（分辨(bian)率1μm，膜(mo)厚3-5μm）爲(wei)重點(dian)，可應(ying)用于(yu)Lift-off工藝(yi)、厚鋁(lü)刻蝕(shi)、PAD工藝(yi)；ArF系列(lie)光刻(ke)膠正(zheng)在以(yi)💫與客(ke)戶合(he)作開(kai)發模(mo)式推(tui)進，開(kai)發的(de)ArF光刻(ke)膠樣(yang)品分(fen)别達(da)到了(le)N90、N65、N55的應(ying)用需(xu)求，已(yi)有一(yi)款ArF光(guang)刻膠(jiao)産品(pin)小批(pi)量供(gong)應某(mou)存儲(chu)芯片(pian)制造(zao)商，全(quan)👌系列(lie)産品(pin)還需(xu)進一(yi)步在(zai)客戶(hu)端評(ping)估驗(yan)證。

 

廣(guang)州微(wei)納光(guang)刻材(cai)料

公(gong)司專(zhuan)注開(kai)發ArF光(guang)刻膠(jiao)，目前(qian)主要(yao)開發(fa)了90nm和(he)55nm節點(dian)的ArF光(guang)刻膠(jiao)樣品(pin)，90nm節點(dian)的光(guang)刻膠(jiao)有很(hen)好的(de)線寬(kuan)粗糙(cao)度，55nm節(jie)點的(de)高寬(kuan)比可(ke)達3.2:1，同(tong)複旦(dan)大學(xue)微電(dian)子學(xue)院鄧(deng)海教(jiao)授課(ke)題組(zu)有深(shen)度合(he)😌作，其(qi)以OEM形(xing)式進(jin)行代(dai)工生(sheng)産，和(he)廣東(dong)/嘉興(xing)兩家(jia)化工(gong)生産(chan)企業(ye)簽👨‍🦰訂(ding)了代(dai)工協(xie)議。
 

勢(shi)銀(TrendBank)2021年(nian)推出(chu)最新(xin)年度(du)報告(gao)《2021年光(guang)刻膠(jiao)産業(ye)市場(chang)分析(xi)報告(gao)》，本市(shi)場研(yan)究報(bao)告側(ce)重于(yu)國内(nei)半導(dao)體/顯(xian)示光(guang)刻膠(jiao)市場(chang)/供應(ying)鏈，報(bao)告具(ju)體目(mu)錄如(ru)下：

 

第(di)1章 光(guang)刻膠(jiao)概念(nian)及其(qi)行業(ye)發展(zhan)概述(shu)

1.1 光刻(ke)膠概(gai)念深(shen)度剖(pou)析

    1.1.1 光(guang)刻膠(jiao)應用(yong)場景(jing)分析(xi)

    1.1.2 光刻(ke)膠的(de)産品(pin)及應(ying)用屬(shu)性分(fen)析

    1.1.3 先(xian)進光(guang)刻材(cai)料熱(re)點剖(pou)析

1.2 中(zhong)國光(guang)刻膠(jiao)行業(ye)發展(zhan)現狀(zhuang)

    1.2.1 國内(nei)光刻(ke)膠整(zheng)體市(shi)場及(ji)國産(chan)化情(qing)況

    1.2.2 國(guo)内光(guang)刻膠(jiao)産業(ye)鏈瓶(ping)頸剖(pou)析

    1.2.3 國(guo)内各(ge)地利(li)好政(zheng)策及(ji)項目(mu)布局(ju)剖析(xi)

 

第2章(zhang) 中國(guo)光刻(ke)膠專(zhuan)用化(hua)學品(pin)行業(ye)競争(zheng)環境(jing)分析(xi)

2.1 全球(qiu)光刻(ke)膠專(zhuan)用化(hua)學品(pin)主要(yao)企業(ye)格局(ju)現狀(zhuang)

    2.1.1 上遊(you)主要(yao)企業(ye)所屬(shu)地分(fen)布情(qing)況

    2.1.2 主(zhu)要企(qi)業化(hua)學品(pin)經營(ying)範疇(chou)

2.2 國内(nei)光刻(ke)膠專(zhuan)用化(hua)學品(pin)市場(chang)分析(xi)

2.3 國内(nei)光刻(ke)膠專(zhuan)用化(hua)學品(pin)主要(yao)企業(ye)剖析(xi)

    2.3.1 強力(li)新材(cai)

    2.3.2 聖泉(quan)集團(tuan)

    2.3.3 徐州(zhou)博康(kang)

 

第3章(zhang) 中國(guo)光刻(ke)膠行(hang)業競(jing)争環(huan)境分(fen)析

3.1 國(guo)内光(guang)刻膠(jiao)企業(ye)地域(yu)分布(bu)深度(du)剖析(xi)

3.2 國内(nei)光刻(ke)膠企(qi)業的(de)産品(pin)/産能(neng)情況(kuang)統計(ji)

3.3 國内(nei)光刻(ke)膠市(shi)場深(shen)度剖(pou)析

    3.3.1 國(guo)内半(ban)導體(ti)及顯(xian)示光(guang)刻膠(jiao)市場(chang)格局(ju)分析(xi)

    3.3.2 國内(nei)半導(dao)體及(ji)顯示(shi)光刻(ke)膠市(shi)場規(gui)模分(fen)析

3.4 國(guo)内光(guang)刻膠(jiao)産業(ye)配套(tao)檢測(ce)設備(bei)剖析(xi)

    3.4.1 配套(tao)檢測(ce)設備(bei)資金(jin)投入(ru)占比(bi)剖析(xi)

    3.4.2 光刻(ke)膠關(guan)鍵設(she)備國(guo)産化(hua)分析(xi)

 

第4章(zhang) 全球(qiu)光刻(ke)膠行(hang)業主(zhu)要企(qi)業發(fa)展情(qing)況分(fen)析

4.1 國(guo)外光(guang)刻膠(jiao)産業(ye)主要(yao)企業(ye)經營(ying)情況(kuang)分析(xi)

    4.1.1 德國(guo)默克(ke)

    4.1.2 日本(ben)TOK

    4.1.3 日本(ben)JSR

    4.1.4 美國(guo)陶氏(shi)化學(xue)

4.2 重點(dian)企業(ye)發展(zhan)情況(kuang)剖析(xi)

    4.2.1 南大(da)光電(dian)

    4.2.2 晶瑞(rui)股份(fen)

    4.2.3 彤程(cheng)新材(cai)

    4.2.4 上海(hai)新陽(yang)

    4.2.5 雅克(ke)科技(ji)

 

第5章(zhang) 中國(guo)光刻(ke)膠專(zhuan)利及(ji)光刻(ke)技術(shu)分析(xi)

5.1 國内(nei)主要(yao)企業(ye)專利(li)申請(qing)情況(kuang)剖析(xi)

5.2 國内(nei)光刻(ke)膠專(zhuan)利深(shen)度剖(pou)析

    5.2.1 國(guo)内光(guang)刻膠(jiao)專利(li)結構(gou)分析(xi)

    5.2.2 國内(nei)外專(zhuan)利趨(qu)勢對(dui)比分(fen)析

5.3 先(xian)進光(guang)刻技(ji)術路(lu)線對(dui)比分(fen)析

 

第(di)6章 中(zhong)國光(guang)刻膠(jiao)下遊(you)需求(qiu)市場(chang)情況(kuang)分析(xi)

6.1 下遊(you)應用(yong)結構(gou)剖析(xi)

6.2 終端(duan)市場(chang)格局(ju)分析(xi)

 

第7章(zhang)中國(guo)光刻(ke)膠産(chan)業市(shi)場發(fa)展趨(qu)勢預(yu)測（2021-2025）

 

第(di)8章中(zhong)國光(guang)刻膠(jiao)産業(ye)投資(zi)機會(hui)及風(feng)險分(fen)析

8.1 産(chan)業投(tou)資機(ji)會

8.2 投(tou)資風(feng)險分(fen)析

 

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