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光固化(hua)粘合劑(ji)的機遇(yu)與挑戰(zhan)
簡要總(zong)結了光(guang)固化粘(zhan)合劑及(ji)其應用(yong)的特點(dian)、配方設(she)計~要點(dian)、難🧑🏻❤️🧑🏼點和(he)核心性(xing)能指标(biao);從技術(shu)特色和(he)技術先(xian)進性角(jiao)度提出(chu)💞了一些(xie)值得關(guan)注、并有(you)較大市(shi)場空間(jian)的光固(gu)化粘合(he)劑,包括(kuo)✍🏻UV壓敏膠(jiao)🙆🏿、複合膠(jiao)、建築膠(jiao)、電子膠(jiao)和光學(xue)膠;分析(xi)了提高(gao)光固化(hua)的官能(neng)團轉化(hua)率的重(zhong)要性以(yi)及新原(yuan)料、新産(chan)品開發(fa)方面的(de)🧑🏽❤️💋🧑🏻一些難(nan)題。
發布(bu)時間:
2025-11-22
光刻(ke)膠 | 半導(dao)體高壁(bi)壘核心(xin)材料
導(dao)言:光刻(ke)膠目前(qian)廣泛用(yong)于光電(dian)信息産(chan)業的微(wei)細圖形(xing)線路加(jia)㊙️工制作(zuo),光刻工(gong)藝的成(cheng)本約占(zhan)整個芯(xin)片制造(zao)工藝的(de)35%,耗時占(zhan)整👯🏾♂️個芯(xin)片工藝(yi)的40%到60%,是(shi)半導體(ti)制造中(zhong)的核心(xin)工藝⛹🏻♀️。光(guang)刻膠💌材(cai)料約👿占(zhan)芯片制(zhi)造材料(liao)總成本(ben)的4%,是半(ban)導體集(ji)成💔電路(lu)制造的(de)核心材(cai)料。 中國(guo)光刻膠(jiao)市場增(zeng)速高于(yu)國際水(shui)平,據前(qian)瞻産ˇ業(ye)研究院(yuan)數據,2019年(nian)我國光(guang)刻膠本(ben)土供應(ying)量約👯🏾♂️70億(yi)元👹,自2010年(nian)起複🤑合(he)增速達(da)11%,遠高于(yu)全球增(zeng)速,但本(ben)土供應(ying)量在全(quan)球占比(bi)僅10%左右(you),且以已(yi)經實現(xian)國産替(ti)代的主(zhu)要是中(zhong)低端PCB光(guang)刻膠,LCD和(he)半導體(ti)領域的(de)光刻膠(jiao)自給率(lü)極低。 光(guang)刻膠是(shi)圖形轉(zhuan)移介質(zhi),其利用(yong)光照反(fan)😮💨應後溶(rong)解度🏃🏿♀️➡️不(bu)同将掩(yan)膜版圖(tu)形轉移(yi)至襯底(di)上,主要(yao)由感光(guang)劑(光引(yin)發劑)、聚(ju)合劑(感(gan)光樹脂(zhi))、溶劑與(yu)助劑構(gou)成。 光刻(ke)膠原材(cai)料主要(yao)爲樹脂(zhi)、溶劑和(he)其他添(tian)加劑。其(qi)中溶劑(ji)質量占(zhan)比最大(da),一般在(zai)80%以上。其(qi)他添😗加(jia)劑質量(liang)占比雖(sui)不足5%,卻(que)是決定(ding)光刻膠(jiao)特有性(xing)質的關(guan)鍵材料(liao),包括光(guang)敏劑、表(biao)面活性(xing)劑等材(cai)料。 在光(guang)刻工藝(yi)中,光刻(ke)膠被均(jun)勻👽塗布(bu)在矽片(pian)、玻璃和(he)金屬等(deng)不同的(de)襯底上(shang),經👨🏻🏭曝光(guang)、顯影和(he)蝕😍刻😮💨等(deng)工序😈将(jiang)掩👯🏾♂️膜版(ban)上的圖(tu)形轉移(yi)到薄膜(mo)上,形成(cheng)與掩膜(mo)版完💔全(quan)對應的(de)幾何圖(tu)形。 光刻(ke)膠可根(gen)據其下(xia)遊應用(yong)領域分(fen)爲半導(dao)體👺光刻(ke)膠、面闆(pan)光刻膠(jiao)和PCB光刻(ke)膠三類(lei)。 半導👽體(ti)光刻膠(jiao) 目前,KrF/ArF仍(reng)是主流(liu)的加工(gong)材料。光(guang)刻技術(shu)随着💘集(ji)成電路(lu)的發展(zhan)經曆了(le)從G線(436nm)光(guang)刻,H線(405nm)光(guang)刻,I線(365nm)光(guang)刻,到😸深(shen)紫外線(xian)DUV光刻(KrF248nm和(he)ArF193nm)、193nm浸沒式(shi)加多重(zhong)成像技(ji)術(32nm-7nm),在到(dao)極端紫(zi)外線(EUV,<13.5nm)光(guang)刻的發(fa)展,甚至(zhi)采用非(fei)光學光(guang)刻(電子(zi)束曝光(guang)、離子束(shu)👽曝光),以(yi)相應波(bo)長爲感(gan)光波長(zhang)的各類(lei)光刻膠(jiao)也應用(yong)🏊🏾♀️而生🥑️。 光(guang)刻膠市(shi)場行業(ye)集中度(du)高。日本(ben)企業在(zai)半導體(ti)光刻膠(jiao)領ˇ域占(zhan)據絕對(dui)優勢。半(ban)導體光(guang)刻膠🧛🏾♀️主(zhu)要生産(chan)企業包(bao)括日本(ben)東京~應(ying)化、JSR、住友(you)化學、信(xin)越化學(xue);韓國東(dong)進世美(mei)肯;美國(guo)陶氏杜(du)邦,其中(zhong)日本企(qi)業占✋據(ju)約70%市場(chang)份額。分(fen)産品看(kan)🎅🏿,東京應(ying)化在g線(xian)/i線和Krf光(guang)刻👩🍼膠領(ling)域居龍(long)頭地位(wei),市場👯🏾♂️份(fen)額分别(bie)達到27.5%和(he)😍32.7%。JSR在Arf光刻(ke)膠領域(yu)市占率(lü)最高,爲(wei)25.6%。 根據富(fu)😵💫士經濟(ji)預測,2023年(nian)全球ArF、KrF膠(jiao)産能有(you)望達到(dao)1870、3650噸,市場(chang)規模近(jin)49、28億元。日(ri)本光刻(ke)膠龍頭(tou)JSR、TOK包括光(guang)刻膠在(zai)内的ˇ業(ye)務毛利(li)率約40%,其(qi)中光刻(ke)膠原料(liao)成本約(yue)占90%。 國内(nei)半👹導體(ti)用光刻(ke)膠生産(chan)企業包(bao)括上海(hai)新陽、南(nan)大光電(dian)、晶瑞股(gu)份、北京(jing)科華、恒(heng)坤股份(fen)。目前隻(zhi)有北京(jing)科華、晶(jing)瑞股份(fen)具備量(liang)産KrF光刻(ke)膠能~力(li),北京科(ke)華産品(pin)已🙉爲中(zhong)芯國際(ji)供貨。上(shang)海新陽(yang)在建的(de)19000噸/年ArF(幹(gan)法)光刻(ke)膠項目(mu)預計2022年(nian)達産。 面(mian)闆光刻(ke)膠 光刻(ke)膠是LCD面(mian)闆制造(zao)的關鍵(jian)材料,根(gen)據使用(yong)對象的(de)不同,又(you)可分爲(wei)RGB膠、BM膠、OC膠(jiao)、PS膠、TFT膠等(deng)。 面闆光(guang)刻膠主(zhu)要包括(kuo)TFT配線用(yong)光刻膠(jiao)👌、LCD/TP襯墊料(liao)光刻膠(jiao)、彩色🧜🏼♀️光(guang)刻膠及(ji)黑色光(guang)刻膠四(si)大類别(bie)。其中TFT配(pei)線用光(guang)刻膠用(yong)于對ITO布(bu)線,LCD/TP沉澱(dian)料光刻(ke)膠用于(yu)使LCD兩個(ge)玻璃基(ji)闆間的(de)液晶材(cai)料厚度(du)保持恒(heng)定。彩色(se)光刻膠(jiao)及黑色(se)光刻膠(jiao)可賦予(yu)彩色濾(lü)光片~顯(xian)色功能(neng)。 面闆光(guang)刻膠市(shi)場需要(yao)構成🧜🏼♀️穩(wen)定,彩色(se)光刻膠(jiao)需求量(liang)領先~,預(yu)計2022年全(quan)球銷售(shou)量将達(da)22900噸,銷售(shou)額将達(da)8.77億美元(yuan)。 TFT面闆用(yong)光刻膠(jiao)👨🦰、LCD/TP襯墊料(liao)光刻膠(jiao)、黑色光(guang)刻膠銷(xiao)售額2022年(nian)預計分(fen)别達到(dao)3.21億😍美元(yuan)、2.51億美元(yuan)、1.99億美元(yuan)。 根據智(zhi)研咨詢(xun)測算🧑🏽🎄,2020年(nian)全球面(mian)闆光✋刻(ke)膠市場(chang)規模将(jiang)達到167億(yi)人民币(bi),增速維(wei)持在4%左(zuo)右。根據(ju)🧑🏻❤️🧑🏼我們👩🏼❤️👨🏾的(de)測算,到(dao)2025年光刻(ke)膠市場(chang)規模将(jiang)達到203億(yi)人民币(bi)。其😁中,伴(ban)随LCD産業(ye)中心的(de)轉移,我(wo)國LCD光刻(ke)膠市場(chang)規模及(ji)國産化(hua)率有望(wang)逐步提(ti)升。 PCB用光(guang)刻膠 PCB光(guang)刻膠可(ke)根據塗(tu)布方式(shi)🏊🏾♀️分爲UV固(gu)化油墨(mo)和UV噴ˇ塗(tu)油墨。目(mu)前國内(nei)PCB油墨供(gong)應商已(yi)逐步實(shi)現國産(chan)替代😁,容(rong)大感光(guang)、廣信材(cai)料等企(qi)業已掌(zhang)握PCB油💞墨(mo)關鍵技(ji)術。 國内(nei)對TFT光刻(ke)膠和半(ban)導體光(guang)刻膠仍(reng)在起步(bu)探索階(jie)段。晶瑞(rui)股份👱🏼♂️、雅(ya)克科技(ji)、永太科(ke)…技、容大(da)感光、欣(xin)奕華、中(zhong)電彩虹(hong)、飛凱材(cai)料在TFT光(guang)刻膠領(ling)域均有(you)布局,其(qi)中飛凱(kai)材料、北(bei)旭電子(zi)規劃産(chan)能高達(da)5000噸/年,雅(ya)克科技(ji)通過👩🍼收(shou)😈購LG化學(xue)下屬🙈彩(cai)色光刻(ke)膠事業(ye)部切入(ru)此市場(chang),在渠道(dao)和技術(shu)方面具(ju)備優勢(shi)。 光刻膠(jiao)等技術(shu)壁壘極(ji)高的行(hang)業,實😺現(xian)技術層(ceng)面的突(tu)破是基(ji)礎、其次(ci),需不斷(duan)改進工(gong)藝👧🏾,滿足(zu)半導體(ti)行業快(kuai)速發展(zhan)的需要(yao)。 由于光(guang)刻膠等(deng)行業認(ren)證時間(jian)較長🙈,客(ke)戶不會(hui)輕易更(geng)換供應(ying)商,因此(ci)進入主(zhu)流供應(ying)鏈是極(ji)其必😺要(yao)的。國内(nei)光刻膠(jiao)生産商(shang)未ˇ來有(you)望把握(wo)😁中國半(ban)導體行(hang)業進口(kou)替代契(qi)⛹🏻♀️機,實現(xian)快速發(fa)展。 ◆ 資料(liao)來👧🏾源:電(dian)子材料(liao)圈 ◆ 免責(ze)聲明💁🏼♀️:所(suo)載内容(rong)來源于(yu)互聯👼🏾網(wang)😈,微信公(gong)衆号等(deng)公開渠(qu)道,我們(men)對文中(zhong)觀點持(chi)中立态(tai)度,本文(wen)僅供參(can)考、交流(liu)👨🏻🏭。轉載的(de)稿件版(ban)權歸原(yuan)作者和(he)機構所(suo)有。
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什麽(me)是酸銅(tong)中間體(ti)
酸銅中(zhong)間體是(shi)可在酸(suan)性鍍銅(tong)光亮劑(ji)中提供(gong)流平🧑🏽🎄,定(ding)位和分(fen)😥散👿性能(neng)的材料(liao)的總稱(cheng)。它主要(yao)包括酸(suan)性銅染(ran)料,表💯面(mian)活🙆🏿性劑(ji)🏊🏿♀️,濕潤劑(ji),防霧劑(ji)等,并且(qie)在電路(lu)闆電鍍(du)和硬件(jian)😈電鍍中(zhong)ˇ具有廣(guang)泛的用(yong)途。電路(lu)闆的酸(suan)性銅鍍(du)😮💨層中通(tong)常使用(yong)的是🧎🏻♀️➡️通(tong)孔銅鍍(du)♌️層,盲孔(kong)鍍銅層(ceng),緞面銅(tong)等。所用(yong)的酸銅(tong)中間體(ti)主😵💫要包(bao)括DEB-45,DEB-MP5,COMP3805,SPS等材(cai)料。
什麽(me)是PCB标準(zhun)通孔尺(chi)寸
PCB制造(zao)商在鑽(zuan)孔時有(you)自己的(de)一套标(biao)準孔尺(chi)寸可供(gong)選💕擇,但(dan)他們通(tong)常可以(yi)使用任(ren)何标準(zhun)孔尺寸(cun)。一般情(qing)況下,PCB廠(chang)⛹🏻♀️家可以(yi)使PCB通孔(kong)直徑小(xiao)于0.15 mm,而正(zheng)常尺寸(cun)爲^0.6 mm。
亞什(shi)蘭Ashland Aqualon EC乙基(ji)纖維素(su)
水不溶(rong)性和非(fei)離子性(xing);熱塑性(xing)(156℃),優秀的(de)塑性流(liu)動,适合(he)于~注模(mo)和熱熔(rong)擠出;機(ji)械性質(zhi)适合于(yu)壓片和(he)成膜;粘(zhan)度(分子(zi)量)和/或(huo)取代度(du)會顯著(zhe)影響物(wu)理性質(zhi)。
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