打破日企壟(lǒng)斷隻是時間問題(ti)？東進半導體宣布(bù)與三星成功研☁️發(fa)EUV光刻膠

　　據韓媒etnews報(bào)道，韓國東進半導(dao)體與三星電子合(hé)作，成功開發了超(chāo)細半導體加工必(bì)不可少的材料——極(jí)紫🚶‍♀️外(EUV)光刻膠(PR)。EUV光刻(ke)膠是因其技術難(nán)度高而完全依賴(lai)國外的🌍産品，此😘次(cì)韓國通過國内企(qǐ)業合作實現了國(guó)産化，意味着日企(qǐ)🔴壟斷的打破。

 

東進(jin)半導體華城工廠(chang)鳥瞰圖，來源：etnews

 

　　12月13日(ri)，東進半導體宣布(bu)于近期通過了三(sān)星電子的EUV光刻膠(jiāo)可靠性測試，發布(bu)此消息後，截至12月(yuè)13日上午11時45分，東進(jìn)半導體股🆚價較前(qian)一交易日上漲12.8%。

 

　　一(yī)位熟悉此事的業(ye)内人士表示，“東進(jìn)半導體在其位于(yu)京畿道華城的工(gōng)廠開發了 EUV光刻膠(jiao)，并在三星電子的(de)華城EUV生産線上對(dui)🔴其進行了測試，并(bing)獲得了👄最終的🧡可(ke)靠性認證。”

 

三星電(diàn)子， 來源：etnews

　　光刻膠是(shì)半導體曝光工藝(yì)中的關鍵材料。它(ta)被施加在晶片上(shàng)，當用半導體曝光(guang)設備照射光時，會(hui)發生化學反應并(bìng)改變物理特性。通(tōng)過用顯影劑沖洗(xi)掉來繪🧡制微電路(lu)，隻留下必要的部(bù)分。

 

　　在韓國，用于KrF和(he)ArF工藝的光刻膠已(yǐ)大量生産，但沒有(you)用于可💁以🌏繪制更(gèng)精細電路的EUV光刻(ke)膠，大部分需要依(yī)賴日本💘進口。此外(wài)在2019年，日本與韓國(guo)爆發争議之後曾(ceng)經限制三🐇種重要(yao)的半導👄體材料對(dui)韓國的出口，EUV光刻(ke)膠就是其中之一(yī)，爲此韓國公司也(yě)加快了EUV光刻膠的(de)研🌈發，東進半導體(ti)也是其中之一。

 

　　東(dong)進半導體利用自(zì)有的基礎設施，如(rú)現有的ArF曝光🈲機和(hé)比利時半導體研(yán)究所I MEC EUV設備，開始進(jin)行EUV光刻膠㊙️國産化(huà)研發。

 

　　今年早些時(shí)候，其加強了EUV光刻(ke)膠專家并加速了(le)技術開發。此外，三(sān)星電子積極支持(chi)EUV測試環境，以達到(dao)可以在現場使用(yong)的質量🆚水平。

 

　　目前(qian)尚不清楚三星電(diàn)子是否會立即将(jiang)東進半導體EUV光刻(kè)膠投入半導體生(sheng)産線。正常情況下(xia)，如果質量合格就(jiù)會投入量♌産線。因(yin)此，有人預測最早(zǎo)可能在明年上半(bàn)年供應。三星電子(zi)和東進半導體目(mu)前都拒絕就本條(tiao)新聞🔅表态。三星電(dian)子的一位官員表(biǎo)示：“我們無法與合(hé)作公司☀️确認測試(shi)是否通過。”

 

　　就該消(xiao)息而言，三星與東(dōng)進半導體研發的(de)EUV光刻膠産品隻是(shi)成功通過了測試(shi)，距離量産時間還(hái)不确定，但這一消(xiāo)息也表明三星已(yǐ)經在EUV光刻膠方面(mian)取🥰得成功，量産将(jiang)隻是時間問題📞。