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新聞資訊(xun)

新材料科(ke)技與化學(xue)技術創新(xin)

光(guang)刻膠 | 半導(dao)體高壁壘(lei)核心材料(liao)

導言:光刻(ke)膠目前廣(guang)泛用于光(guang)電信息産(chan)業的微細(xi)圖形線路(lu)👼🏾加工制作(zuo),光刻工藝(yi)的成本約(yue)占整個芯(xin)片制造工(gong)🧑🏻‍❤️‍🧑🏼藝的35%,耗時(shi)占整個芯(xin)片工藝的(de)40%到60%,是半導(dao)體制造中(zhong)的核👩🏼‍❤️‍👨🏾心工(gong)藝。光刻膠(jiao)💘材料約占(zhan)芯片制造(zao)材料總成(cheng)本的4%,是半(ban)導體集成(cheng)電路制造(zao)的核心材(cai)料。   中國光(guang)刻膠市場(chang)增速高于(yu)國際水平(ping),據前瞻産(chan)😈業研究院(yuan)數據😮‍💨,2019年我(wo)國光刻膠(jiao)本土供應(ying)量約70億元(yuan),自2010年起複(fu)合增速達(da)11%,遠高于全(quan)球增速,但(dan)本土供應(ying)量在全球(qiu)占比僅10%左(zuo)👱🏼‍♂️右,且以已(yi)經實現國(guo)産替代的(de)主要是中(zhong)💫低端PCB光刻(ke)膠👾,LCD和半導(dao)體領域的(de)光刻膠自(zi)給率極低(di)。   光刻膠是(shi)圖形轉移(yi)介質,其利(li)用光照反(fan)👺應後溶解(jie)度不同将(jiang)掩膜版👽圖(tu)形轉移至(zhi)襯底上,主(zhu)要由🎅🏿感光(guang)劑(光引發(fa)劑)、聚合劑(ji)(感光樹脂(zhi))、溶劑與助(zhu)劑構成。   光(guang)刻膠原材(cai)料主要爲(wei)樹脂、溶劑(ji)和其他添(tian)加劑。其中(zhong)溶劑質量(liang)占比最大(da),一般在80%以(yi)上。其他添(tian)👌加劑質量(liang)占比雖不(bu)足5%,卻是決(jue)定光刻膠(jiao)特有性質(zhi)的關鍵材(cai)料👼🏾,包括光(guang)敏劑☠️、表面(mian)活性劑等(deng)😥材料。   在光(guang)刻工藝中(zhong),光刻膠被(bei)均勻塗布(bu)在矽片、玻(bo)璃😵‍💫和金屬(shu)😈等不同的(de)襯底上,經(jing)曝光、顯影(ying)和蝕刻🥑️等(deng)工序将掩(yan)膜版上的(de)圖形轉移(yi)到薄膜上(shang),形成與掩(yan)膜版完全(quan)對應的幾(ji)何圖形。   光(guang)刻膠可根(gen)據其下遊(you)應用👾領域(yu)分爲半導(dao)體🤶🏾光刻膠(jiao)、面闆光刻(ke)膠和PCB光刻(ke)膠三類。   半(ban)導🛌🏻體光刻(ke)膠 目前,KrF/ArF仍(reng)是主流的(de)加工材料(liao)💞。光刻技術(shu)随着集成(cheng)電路的發(fa)展經曆了(le)從G線(436nm)光刻(ke),H線(405nm)光刻,I線(xian)💔(365nm)光刻,到深(shen)紫外線DUV光(guang)刻(KrF248nm和ArF193nm)、193nm浸沒(mei)式加多重(zhong)成像技術(shu)🧎🏻‍♀️‍➡️(32nm-7nm),在到極端(duan)紫外線(EUV,<13.5nm)光(guang)刻的發展(zhan),甚至采用(yong)非光學光(guang)刻(電子束(shu)曝🧎🏻‍♀️‍➡️光、離子(zi)👾束曝光),以(yi)相應波長(zhang)爲感光波(bo)長的各類(lei)光刻膠也(ye)應用🧑🏽‍🎄而生(sheng)。 光刻膠市(shi)場行業集(ji)😝中度高。日(ri)本企業在(zai)半導體光(guang)刻膠領💔域(yu)占據絕對(dui)優勢。半導(dao)體光刻膠(jiao)主要生産(chan)企業包括(kuo)日本東京(jing)👽應化、JSR、住友(you)化學、信越(yue)化學;韓國(guo)東進世美(mei)肯;美國陶(tao)氏👱🏼‍♂️杜邦,其(qi)🔞中日本企(qi)業占據約(yue)70%市場份額(e)。分産品看(kan),東京應化(hua)在g線/i線和(he)👀Krf光刻🙆🏿膠領(ling)域居龍頭(tou)地位,市場(chang)份額分别(bie)達到27.5%和32.7%。JSR在(zai)Arf光刻膠領(ling)域市占率(lü)最高,爲25.6%。 根(gen)據富士經(jing)濟預測,2023年(nian)全球ArF、KrF膠産(chan)能有望達(da)到1870、3650噸,市場(chang)規模近49、28億(yi)元。日本光(guang)刻膠龍頭(tou)JSR、TOK包括光刻(ke)膠在内的(de)🧑🏽‍❤️‍💋‍🧑🏻業務毛利(li)率😁約40%,其中(zhong)光刻膠原(yuan)料成本約(yue)占90%。 國内半(ban)🙉導體用光(guang)😥刻膠生産(chan)企業包括(kuo)上海新陽(yang)🙈、南大光電(dian)、晶瑞股份(fen)、北京科華(hua)、恒坤股份(fen)。目前隻😁有(you)北京科華(hua)、晶瑞股份(fen)具備量産(chan)KrF光刻膠能(neng)😜力,北京科(ke)華産品已(yi)👀爲中芯國(guo)際🏊🏿‍♀️供貨。上(shang)海新陽在(zai)建的19000噸/年(nian)ArF(幹法)光👹刻(ke)膠項目預(yu)計2022年達産(chan)。   面闆光刻(ke)膠 光刻膠(jiao)是LCD面闆制(zhi)㊙️造的關鍵(jian)材料,根據(ju)使用對象(xiang)的不同,又(you)可分爲RGB膠(jiao)、BM膠、OC膠、PS膠、TFT膠(jiao)等。 面闆光(guang)刻膠主要(yao)包括TFT配線(xian)用光刻膠(jiao)、LCD/TP襯墊料光(guang)刻膠、彩色(se)🙂‍↔️光刻膠及(ji)黑色光刻(ke)膠四大類(lei)别。其中TFT配(pei)線用光刻(ke)膠用于對(dui)🙆🏿ITO布線,LCD/TP沉澱(dian)料光刻膠(jiao)💫用于使LCD兩(liang)個玻璃基(ji)闆間的液(ye)晶材料厚(hou)度保持恒(heng)定。彩色光(guang)刻膠🧑🏽‍❤️‍💋‍🧑🏻及黑(hei)色光🙂‍↕️刻膠(jiao)可賦予彩(cai)色濾光片(pian)✍🏻顯色功能(neng)。 面闆光刻(ke)膠市場需(xu)要構成穩(wen)定,彩色光(guang)刻膠需求(qiu)量領先,預(yu)計2022年全球(qiu)銷售量将(jiang)達22900噸,銷售(shou)額将達8.77億(yi)美元。 TFT面闆(pan)用光刻膠(jiao)😈、LCD/TP襯墊料光(guang)刻膠、黑色(se)👾光刻膠銷(xiao)售額2022年預(yu)計分别達(da)到3.21億美元(yuan)、2.51億美元、1.99億(yi)美元。 根據(ju)智研咨詢(xun)測算,2020年全(quan)球面闆光(guang)刻膠市場(chang)規模将達(da)到167億人民(min)币,增速維(wei)持在4%左😝右(you)。根據我們(men)👩🏿‍❤️‍💋‍👨🏽的測算,到(dao)2025年光刻膠(jiao)市場規模(mo)将達到203億(yi)人民币。其(qi)中,伴随LCD産(chan)業中心的(de)轉移,我國(guo)LCD光刻膠市(shi)場規模及(ji)國産化率(lü)有🙆🏿望逐步(bu)提升。   PCB用光(guang)刻膠🧜🏼‍♂️ PCB光刻(ke)膠可根據(ju)塗布方式(shi)分爲UV固化(hua)油墨和UV噴(pen)塗油墨💑🏾。目(mu)前國内PCB油(you)~墨供應商(shang)已逐步實(shi)現國産替(ti)代,容大感(gan)光、廣信材(cai)料等企業(ye)已掌握PCB油(you)墨關鍵技(ji)術。 國内對(dui)TFT光刻膠和(he)半導體光(guang)刻膠仍在(zai)起步探索(suo)階段。晶瑞(rui)股份、雅克(ke)💫科技、永太(tai)科技、容大(da)感光、欣奕(yi)華、中電彩(cai)虹、飛凱材(cai)料在TFT光刻(ke)膠領域均(jun)有布局,其(qi)中飛凱材(cai)料、北旭電(dian)♌️子規劃産(chan)能高達5000噸(dun)/年,雅克科(ke)技通過收(shou)購LG化學下(xia)屬彩色光(guang)刻膠事業(ye)♌️部切入此(ci)市場,在渠(qu)🔞道和💕技術(shu)👺方面🏃🏿‍♀️‍➡️具備(bei)優勢。 光刻(ke)膠等技術(shu)壁壘極高(gao)的行業,實(shi)👀現技術🧜🏼‍♂️層(ceng)面的突破(po)是基礎、其(qi)次,需不斷(duan)改進工藝(yi)🏊🏿‍♀️,滿足半導(dao)👋體行業快(kuai)速發展的(de)需要。 由于(yu)光刻膠等(deng)🛀🏼行業認證(zheng)時間較長(zhang),客戶不會(hui)輕易更換(huan)供應商,因(yin)此進入主(zhu)流供應鏈(lian)是極其必(bi)要的。國内(nei)光刻膠生(sheng)産商未來(lai)有望把握(wo)中國半導(dao)體行業進(jin)口替代契(qi)😍機,實現快(kuai)速發展。   ◆ 資(zi)料來源:電(dian)子材料圈(quan) ◆ 免責聲明(ming)🧎🏻‍♀️‍➡️:所載内容(rong)來源于互(hu)聯網,微信(xin)公衆号等(deng)公開渠道(dao)👯🏾‍♂️,我們對文(wen)中觀點持(chi)中立态度(du),本文僅供(gong)參考、交流(liu)。轉載的稿(gao)件版權歸(gui)原作者和(he)機構所🏃🏻‍♀️有(you)。

發布時間(jian):

2025-11-22

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